第236章 当年我们的光刻机也百花齐放 (第3/4页)

有最先进的光刻机才行。

    之前的时候，陈怀庆对国内光刻机的情况，真的不怎么了解。

    就只是知道申城微电子是国内最先进的光刻机研发和制造单位。

    申城微电子公司研发出来了后道90纳米光刻机，只不过因为大量采用国外的零部件，直接被国外零部件厂商断供了。

    申城微电子公司研发出来的光刻机直接就没有办法实现量产。

    不能够实现产品量产，也就意味着前期投入的研发费用收不回来。

    申城微电子公司只能够转而去研究前道光刻机。

    前道光刻机主要应用于半导体屏幕的。

    是的，屏幕也是由光刻机来生产的。

    可现在却有人告诉陈怀庆，华国的光刻机并不差。

    陈怀庆抬头看向赵建胜：“各位领导，你们确定给我看的资料，没有掺假？”

    第一台光刻机落地于60年代中后期，

    1980年自动对准分布投影光刻机研制成功，加工最细线宽为0.8微米。

    此时在国内，光刻机研发团队还真的不少，不像是最后，就剩下申城微电子一个独苗。

    109厂是高技术半导体器件和集成电路研制生产中试厂。

    赵建胜嗤笑一声：“怎么，很惊讶？”

    陈怀庆：“不仅仅是惊讶，还很难以置信。本来，我以为我们的光刻机技术很落后，可却没有想到，国家已经发展到了这个程度。”

    此时国内的光刻机技术和世界最先进水平相比，差距绝对不会太大，可能也就在五年内。

    不像是到了21世纪之后，这个差距被拉大到了四代。

    到了euv光刻机，光刻机才是第五代！

    也就是说